Depozicija i karakterizacija tankih slojeva nestehiometrijskog amorfnog silicijevog nitrida

Tijanić, Zdenko (2010) Depozicija i karakterizacija tankih slojeva nestehiometrijskog amorfnog silicijevog nitrida. Diploma thesis, Faculty of Science > Department of Physics.

[img] PDF
Restricted to Registered users only
Language: Croatian

Download (2MB)

Abstract

Deponirani su tanki slojevi nestehiometrijskog amorfnog silicijevog nitrida (SiNx) metodom kemijske depozicije iz parne faze pri sniženom tlaku (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition, LPCVD), reakcijom nitridacije silana amonijakom na temperaturi 570°C. Slojevi su deponirani na silicijeve (111) podloge. Varirani su tokovi amonijaka (NH3) i silana (SiH4) kroz reakcijsku komoru LPCVD reaktora, kako bi se deponirali slojevi sa različitim vrijednostima stehiometrijskog koeficijenta x. Navedeni slojevi su karakterizirani elipsometrijom, infracrvenom i Ramanovom spektroskopijom, pretražnom elektronskom mikroskopijom (engl. Scanning Electron Microscopy, SEM) i analizom detekcije elastičnog odboja vremenom proleta (engl. Time of Flight Elastic Recoil Detection Analysis, ToF-ERDA). Za svaki sloj je određena debljina, indeks loma, dubinski profil koncentracija atoma dušika i silicija, te stehiometrijski koeficijent x.

Item Type: Thesis (Diploma thesis)
Keywords: silicij ; silicijev nitrid ; CVD proces ; metode karakterizacije ; elipsometrija ; Ramanova spektroskopija ; infracrvena spektroskopija ; pretražna elektronska mikroskopija (SEM) ; LPCVD reaktor
Supervisor: Ivanda, Mile
Co-supervisor: Tonejc, Antun
Date: 15 December 2010
Number of Pages: 84
Subjects: NATURAL SCIENCES > Physics
Divisions: Faculty of Science > Department of Physics
Depositing User: Gordana Stubičan Ladešić
Date Deposited: 04 Jan 2014 16:03
Last Modified: 28 Mar 2014 19:59
URI: http://digre.pmf.unizg.hr/id/eprint/123

Actions (login required)

View Item View Item

Nema podataka za dohvacanje citata